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必須 溶液
水性油性
必須 種類
多結晶単結晶
必須 粒径(μm)
-- 選択してください --1/201/101/81/41/21.01.52.03.04.05.06.09.012.013.0~ ※13μm以上の粒径をご希望の場合はお手数ですが備考にご希望粒径をご入力ください。
必須 容量(cc)
500100015002000
任意 備考
その他の要望があればご入力ください。
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Δ
必須 材質
アルミナセリウムシリカ
-- 選択してください --0.10.20.50.71.01.22.03.04.05.57.012.014.020.030.040.048.057.0
-- 選択してください --1.01.21.52.0
-- 選択してください --0.0100.0120.0150.0300.040
必須 量(kg)
※基本量20kg/1袋ですので、"20"以上の数値をご入力ください。
必須 サイズ(インチ)
-- 選択してください --φ1φ2φ3φ4φ5φ6φ8φ12その他(四角等)
必須 厚み(μm)
必須 タイプ
PN不問
必須 結晶方位
<100><110><111>その他不問
必須 抵抗値(Ω・cm)
指定あり不問 ≦~≧
必須 面状態
両面ミラー片面ミラー両面エッチドその他不問
必須 オリフラ
あり(オリフラ)あり(ノッチ)なし不問
必須 パーティクル保証
ありなし不問
必須 枚数
※1枚~(通常は25枚/Lot)
膜付加工をご希望の場合はご希望の膜種と膜厚をご入力ください。
シリコン以外の材料をご希望の場合はご希望の材料種類をご入力ください。(サイズなどはチェックボックスなどを操作してください)
結晶方位やオリフラ方位、パーティクル保証数値にご希望がある場合はご希望の方位や保証数値をご入力ください。
-- 選択してください --φ1φ2φ3φ4φ5φ6φ8その他
必須 活性層 タイプ
必須 活性層 結晶方位
※複数選択可能 <100><110><111><211>不問
必須 活性層 厚み(μm)
必須 活性層 抵抗値(Ω・cm)
必須 活性層 表面処理
ポリッシュポリッシュ(酸化膜付)不問
必須 埋め込み熱酸化膜(μm)
必須 支持基板 タイプ
必須 支持基板 結晶方位
<100><111>不問
必須 支持基板 厚み(μm)
必須 支持基板 抵抗値(Ω・cm)
必須 支持基板 裏面処理
※複数選択可能 ポリッシュポリッシュ(酸化膜付)エッチド不問
追加仕様・追加加工をご希望の場合はご入力ください。