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見積依頼
各種製品のお見積りのご依頼はこちらよりお願いいたします。
ダイヤスラリー
必須
会社名
任意
部署名
必須
ご担当者様名(漢字)
必須
ご担当者様名(カナ)
必須
メールアドレス
必須
お電話番号
必須
溶液
水性
油性
必須
種類
多結晶
単結晶
必須
粒径(μm)
-- 選択してください --
1/20
1/10
1/8
1/4
1/2
1.0
1.5
2.0
3.0
4.0
5.0
6.0
9.0
12.0
13.0~
※13μm以上の粒径をご希望の場合はお手数ですが備考にご希望粒径をご入力ください。
必須
容量(cc)
500
1000
1500
2000
任意
備考
その他の要望があればご入力ください。
必須
個人情報のお取扱について
プライバシーポリシー
をお読みいただた上でチェックをお願いいたします。
同意しました
Δ
研磨材
必須
会社名
任意
部署名
必須
ご担当者様名(漢字)
必須
ご担当者様名(カナ)
必須
メールアドレス
必須
お電話番号
必須
材質
アルミナ
セリウム
シリカ
必須
粒径(μm)
-- 選択してください --
0.1
0.2
0.5
0.7
1.0
1.2
2.0
3.0
4.0
5.5
7.0
12.0
14.0
20.0
30.0
40.0
48.0
57.0
-- 選択してください --
1.0
1.2
1.5
2.0
-- 選択してください --
0.010
0.012
0.015
0.030
0.040
必須
量(kg)
※基本量20kg/1袋ですので、"20"以上の数値をご入力ください。
任意
備考
その他の要望があればご入力ください。
必須
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プライバシーポリシー
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同意しました
Δ
シリコンウェハ
必須
会社名
任意
部署名
必須
ご担当者様名(漢字)
必須
ご担当者様名(カナ)
必須
メールアドレス
必須
お電話番号
必須
サイズ(インチ)
-- 選択してください --
φ1
φ2
φ3
φ4
φ5
φ6
φ8
φ12
その他(四角等)
必須
厚み(μm)
必須
タイプ
P
N
不問
必須
結晶方位
<100>
<110>
<111>
その他
不問
必須
抵抗値(Ω・cm)
指定あり
不問
≦
~≧
必須
面状態
両面ミラー
片面ミラー
両面エッチド
その他
不問
必須
オリフラ
あり(オリフラ)
あり(ノッチ)
なし
不問
必須
パーティクル保証
あり
なし
不問
必須
枚数
※1枚~(通常は25枚/Lot)
任意
備考
膜付加工をご希望の場合はご希望の膜種と膜厚をご入力ください。
シリコン以外の材料をご希望の場合はご希望の材料種類をご入力ください。(サイズなどはチェックボックスなどを操作してください)
結晶方位やオリフラ方位、パーティクル保証数値にご希望がある場合はご希望の方位や保証数値をご入力ください。
必須
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同意しました
Δ
SOIウェハ
必須
会社名
任意
部署名
必須
ご担当者様名(漢字)
必須
ご担当者様名(カナ)
必須
メールアドレス
必須
お電話番号
必須
サイズ(インチ)
-- 選択してください --
φ1
φ2
φ3
φ4
φ5
φ6
φ8
その他
必須
活性層 タイプ
P
N
不問
必須
活性層 結晶方位
※複数選択可能
<100>
<110>
<111>
<211>
不問
必須
活性層 厚み(μm)
必須
活性層 抵抗値(Ω・cm)
指定あり
不問
≦
~≧
必須
活性層 表面処理
ポリッシュ
ポリッシュ(酸化膜付)
不問
必須
埋め込み熱酸化膜(μm)
必須
支持基板 タイプ
P
N
不問
必須
支持基板 結晶方位
<100>
<111>
不問
必須
支持基板 厚み(μm)
必須
支持基板 抵抗値(Ω・cm)
指定あり
不問
≦
~≧
必須
支持基板 裏面処理
※複数選択可能
ポリッシュ
ポリッシュ(酸化膜付)
エッチド
不問
必須
枚数
※1枚~(通常は25枚/Lot)
任意
備考
追加仕様・追加加工をご希望の場合はご入力ください。
必須
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Δ
各種装置
研磨装置
洗浄装置
ドラフトチャンバー関連
供給装置
スピンコーター
電気開発設計サービス
受託加工
ウェーハ加工
各種加工
光半導体関連
消耗品
定盤
スラリー・研磨材
その他消耗品
各種材料
シリコンウェーハ
その他各種ウェーハ
製品カタログ
本社
〒213-0022 神奈川県川崎市高津区千年80-2 千年大藤ビル2F
会津支社
〒965-0842 福島県会津若松市門田町大字中野屋敷34
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