シリコンウェーハ

世の中を快適にする半導体材料

スマートフォンやパソコンをはじめ、家電製品、車などたくさんの身近なものに半導体デバイスが使用されています。
シリコンウェーハ
各種シリコンウェーハを取り揃えております。

【取扱サイズ】
Φ1″,Φ2″,Φ3″,Φ4″,Φ5″,Φ6″,Φ8″,Φ12″

小径~大径までご用意しております。
規格品の他にご希望の仕様も承ります。
サイズの他に厚み、表面状態、結晶方位、タイプ、ドーパント、抵抗値、OF/ノッチ、パーティクル数の8項目をご指定下さい。
シリコンウェーハ見積りフォーム

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    必須 サイズ(インチ)
    必須 厚み(μm)
    必須 タイプ PN不問
    必須 結晶方位 <100><110><111>その他不問
    必須 抵抗値(Ω・cm) 指定あり不問
    ~≧
    必須 面状態 両面ミラー片面ミラー両面エッチドその他不問
    必須 オリフラ あり(オリフラ)あり(ノッチ)なし不問
    必須 パーティクル保証 ありなし不問
    必須 枚数
    ※1枚~(通常は25枚/Lot)
    任意 備考
    • 膜付加工をご希望の場合はご希望の膜種と膜厚をご入力ください。
    • シリコン以外の材料をご希望の場合はご希望の材料種類をご入力ください。(サイズなどはチェックボックスなどを操作してください)
    • 結晶方位やオリフラ方位、パーティクル保証数値にご希望がある場合はご希望の方位や保証数値をご入力ください。

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    SOIウェーハ
    SOI(Silicon on Insulator)ウェーハは、パワーデバイス、MEMS、高速LSI、低消費LSI、などに幅広く採用されております。
    サイズ、活性層と支持基板の厚み、表面状態、結晶方位、タイプ、ドーパント、抵抗値、酸化膜厚をご指定下さい。
    SOIウェーハ見積りフォーム

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      必須 サイズ(インチ)

      必須 活性層 タイプ PN不問
      必須 活性層 結晶方位 ※複数選択可能
      必須 活性層 厚み(μm)
      必須 活性層 抵抗値(Ω・cm) 指定あり不問
      ~≧
      必須 活性層 表面処理 ポリッシュポリッシュ(酸化膜付)不問
      必須 埋め込み熱酸化膜(μm)
      必須 支持基板 タイプ PN不問
      必須 支持基板 結晶方位 <100><111>不問
      必須 支持基板 厚み(μm)
      必須 支持基板 抵抗値(Ω・cm) 指定あり不問
      ~≧
      必須 支持基板 裏面処理 ※複数選択可能
      ポリッシュポリッシュ(酸化膜付)エッチド不問
      必須 枚数
      ※1枚~(通常は25枚/Lot)
      任意 備考
      • 追加仕様・追加加工をご希望の場合はご入力ください。

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      その他(コインロールウェーハ・多結晶ウェーハ・ウェーハケース)

      コインロールウェーハ

      コインロールと呼ばれる保管、梱包状態の安価なシリコンウェーハの取り扱いがございます。(パーティクルの保証はございません)

      【主な用途】
      • 装置の搬送テスト
      • 装置の試運転用ダミー
      • 各種研究の条件出し
      • 簡易台座(シリコンウェーハの精度が良いため) 等
      テストやダミー用途として安価なシリコンウェーハをご検討される際におすすめしております。

      多結晶ウェーハ

      5インチサイズ、6インチサイズの多結晶ウェーハの取り扱いがございます。
      大型のインゴットなども取り扱いがございます。

      ウェーハケース

      各種サイズのウェーハケースの取り扱いがございます。
      25枚入るカセットケース、枚葉ケース、薄厚加工時のウェーハを入れるプロトスケースなどがございます。

      お問い合わせ

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