各種装置

各種半導体材料はもとより、セラミックスや金属、また、ガラス等の光学部品など、さまざまな材料に要求される超高精度な平面精度、面粗度を実現させる研磨装置。

洗浄対象物の材質やサイズ、汚染物質等に合わせた各種洗浄方式による洗浄装置。
発生する有害物質から、作業者や室内を保護するための局所排気装置（ドラフトチャンバー）。

現在までにご提供させて頂いている装置の他、常に進化し続けるニーズにご対応させて頂けるよう、御打合わせを重ねて新規設備の設計・開発も行います。

研磨装置

平面、鏡面加工で必要とされる研磨（ラップ・ポリッシュ）装置。
加工対象物の材質やサイズ、処理個数などに合わせてご提案させていただきます。

洗浄装置

研削、研磨加工の前後工程で必要になってくる洗浄。
洗浄対象物の材質やサイズ、汚染物質などに合わせてご提案させて頂きます。
超音波、スピン、スクラブ、RCA など様々な洗浄方式がございます。

横置きタイプ
スピン＋スクラブ＋薬液・洗浄タイプ

洗浄→乾燥まで行えます。～Φ12インチまで対応が可能です。
実験機や研究用途の場合はコンパクトに納まる横置きタイプがおすすめです。
こちらの横置きタイプのスクラブは表面（片面）のみが通常仕様ですが、ロボットアーム機構追加による洗浄対象物反転も可能としており、両面スクラブも可能です。
また、横置きスピン洗浄＋縦置き両面スクラブを併せた装置もあり、省スペースでもクリーン度の向上を狙えます。
純水＋界面活性剤の簡易薬液洗浄からRCA洗浄、SC１洗浄、SC２洗浄等ノズルカスタムにより様々な洗浄方法へと発展させることも可能です。

縦置きタイプ
スクラブ＋薬液＋MSシャワー・洗浄タイプ

横置きに比べスペースを多くとってしまう装置になりますが、枚様式では無く、カセット枚数へと対応は可能です。
１プロセスごとに洗浄対象物が入ることで、枚様式タイプの洗浄装置より、１カセット（２５枚分）の洗浄時間の削減が可能です。
グレー写真のものはウェットアウトの装置になりますが、ブラックの写真の機構＜縦置きスピン乾燥機を取り付けることにより縦型で一連の洗浄プロセスを終え、乾燥まで行うことが可能です。

ドラフトチャンバー

発生する有害物質から、作業者や室内を保護するための局所排気装置。
使用される薬品や処理内容などに合わせて設計、製作、設置まで対応致します。
材質（PVC 製・SUS 製・PP 製）やサイズなど、細かい点までご要望に沿った形状でご提案致します。

PVC製

スピンコーター

半導体製造工程や研究機関におけるシリコンウエハーやガラス基盤などへのレジスト等の薬剤を効率よく回転塗布する為に欠かせないスピンコーターです。
安価タイプから高性能タイプなど、細かい点までご要望に沿った仕様でご提案致します。